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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。

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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。

A、取下腭杆

B、腭杆组织面缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

参考答案:

参考E

相关问题:

义齿软衬材料的厚度应为( )。

在形成全口义齿龈外形的蜡型时，蜡刀与人工牙轴面之间的角度为( )。

可摘义齿修复组成中，不是大连接体的是

制作隐形义齿，为缓冲义齿下沉对牙龈的压痛，唇舌侧近龈缘及龈乳头填充的范

反装法装盒适用下列哪种义齿类型？( )

以下部位为义齿基托常见的加厚部位，不包括( )。

充填引起义齿咬合增高是因为( )。

下列隐形义齿灌注不足的原因不包括( )。

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