2. 首页 > 题库二 >
  2. 问题

《220kV线路保护技术原则和设计准则》 要求： 为防止保护装置先上电而操作箱后上电

6 查阅
《220kV线路保护技术原则和设计准则》 要求： 为防止保护装置先上电而操作箱后上电时断路器位置不对应误启动重合闸，宜由操作箱对保护装置提供“闭锁重合闸”接点。

对

错

参考答案:

正确

继电保护工职业技能鉴定

相关问题:
  • 按照现行设计标准及原则要求， 110kV保护装置应具有3个以太网接口，110kV以
  • 在操作回路中，应按正常最大负荷下，至各设备的电压降不得超过其额定电压的
  • 在各类保护装置接入电流互感器二次绕组时，应考虑到既要消除保护（ ），同时
  • 按照现行设计标准及原则要求， 备自投的开关位置输入接点可以取自保护装
  • 安装于同一面屏上由不同端子对供电的两套保护装置的直流逻辑回路之间（
  • 断路器在本体就地的合闸操作不应经断路器两侧隔离开关的分位闭锁。
  • 试验过程中，为了防止电子仪表和保护装置的损坏，应当（ ）。
  • 按照设计标准判断该描述是否正确：在继电保护装置交流电流回路设计过程中
    • 随便看看:
  • 健康养生
  • 亲子
  • 胎教
  • 孕妇健康
  • 中药百科
  • 心理

    • Ta老师-周边问题

    1.
    组成半导体激光泵浦固体激光的基本要素包
    2.
    以下所列出的光学元件中，在半导体激光泵浦
    3.
    晶体的电光调制实验中，半波电压越小，则需要
    4.
    一般来说，晶体的一次电光效应要比二次电光
    5.
    通常将电场引起的晶体折射率的变化表示为
    6.
    以下有关晶体电光效应的描述，正确的是（）。
    7.
    电场引起的晶体折射率的变化可以表示为
    8.
    图中三幅图是在晶体的电光调制实验中观察
    9.
    在晶体的电光调制实验中，半波电压是一个重
    10.
    在晶体的电光调制实验中，调节激光管，使入射
    11.
    以下有关电光调制实验中光学系统构建中，正
    12.
    根据阿贝成像理论，如果在付氏面上放置一个
    13.
    傅里叶光学中，光栅的傅里叶分量±1级为“
    14.
    图中所示是阿贝成像的光路示意图，其中付氏
    15.
    在阿贝成像原理中，物体的像是频谱面上的光
    16.
    阿贝成像理论是将成像过程分为两步，第一步
    17.
    传统的成像原理着眼于点的对应，物像之间是
    18.
    图中所示是阿贝成像的光路示意图，下面对该
    19.
    ?以下光源中能在Θ调制实验中用作光源的
    20.
    在一个由红光半导体激光器、聚焦透镜、准
    版权所有,保留一切权利！© 2018-2023 Ta老师 Talaoshi.com 湘ICP备18019507号-1 联系QQ:469958。